Cerâmica de alumina de alta pureza (Al2O3:>99,7%)
-Prato giratório/placa de polimento de wafers de alumina
-Placa de base de alumina de alta pureza de grande porte para equipamentos de fabricação de LCD
Alumina de alta purezaAl2O3:>99,7%
Indústrias de semicondutores, petróleo, química, fotovoltaica, LCD, etc., utilizam componentes mecânicos, eletrônicos, discos de indução de micro-ondas e isolantes. São utilizados na fabricação de dispositivos semicondutores, equipamentos de vácuo, equipamentos para fabricação de cristais líquidos e outros componentes. Por exemplo, a placa/mesa giratória de polimento de wafers de cerâmica de alumina de alta pureza e grandes dimensões é um componente importante no processo de polimento químico-mecânico (CMP), assim como a base de alumina para LCD.
Alumínio de alta pureza2O399,7% - 99,9%
Alta resistência mecânica
Alta resistência ao desgaste
Alto isolamento elétrico
Alta durabilidade química
Boa resistência ao calor e à corrosão
Possuímos propriedade intelectual independente do sistema de solidificação espontânea PIBM e produzimos profissionalmente componentes cerâmicos finos de alta qualidade.
A nova tecnologia supera os problemas de deformação e fissuração de peças cerâmicas de grandes dimensões durante o processo de preparação, e o desempenho do produto é significativamente otimizado para peças cerâmicas de grandes dimensões preparadas por métodos tradicionais.
O processo de polimento de wafers de cerâmica de alumina e safira da Chemshun Ceramics é baseado na tecnologia PIBM, uma tecnologia avançada internacional. A PIBM resolveu com sucesso o principal problema de trincas e deformações em cerâmicas de alumina de grandes dimensões. A tecnologia PIBM abrirá novas perspectivas para a produção de cerâmicas de alta qualidade. Além de produzirmos wafers de cerâmica de alumina de alta qualidade, também fabricamos outras séries de cerâmicas de alumina de alta pureza e grandes dimensões, como substratos cerâmicos de 1200x500x20mm para equipamentos de fabricação de LCD, trilhas de transporte de semicondutores, componentes de vácuo, peças mecânicas em geral e cerâmicas à prova de balas.
1. Prato giratório/placa de polimento de wafer de alumina. Disco com diâmetro inferior a 850 mm e espessura de 45 mm.
2. Placa de base de alumina para LCD como receptor de suporte/placa de montagem. Formatos como placa longa, barra longa, placa quadrada, placa fina com dimensões inferiores a 1500*600mm, como: 1200x500x20, 1400x900x30 etc.
3. Trilhos-guia com dimensões inferiores a 1000 * 45 * 45 mm.
4. Tubos vazios, cilindros, válvulas eletrônicas, etc., com dimensões inferiores a 300 ~ 600 × L500mm.
5. Produtos personalizados com peças de diversos formatos são aceitos.
| Propriedade | Item | Unidade | Cerâmica de alumina Chemshun 99,7% |
| Propriedades Gerais | Componente principal | % em peso | 99,7-99,9 |
| Densidade | gm/cc | 3,94-3,97 | |
| Cor | - | Marfim | |
| Absorção de água | % | 0 | |
| Propriedades Mecânicas | Resistência à flexão (MOR) 20 ℃ | MPa(psix10^3) | 440-550 |
| Módulo de elasticidade a 20°C | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Dureza Vickers | GPa (kg/mm²) R45N | >=17 | |
| Força de flexão | GPA | 390 | |
| Resistência à tração a 25°C | MPa(psix10^3) | 248 | |
| Tenacidade à fratura (KI c) | MPa* m^1/2 | 4-5 | |
| Propriedades Térmicas | Condutividade térmica (20℃) | W/mk | 30 |
| Coeficiente de expansão térmica (25-1000℃) | 1 x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| Resistência ao choque térmico | ℃(∆ Tc) | 200 | |
| Temperatura máxima de utilização | ℃ | 1700 | |
| Propriedades elétricas | Rigidez dielétrica (1MHz) | ac-kv/mm(ac v/mil) | 8,7 |
| Constante dielétrica (1 MHz) | 25℃ | 9,7 | |
| Resistividade volumétrica | ohm-cm (25℃) | >10^14 | |
| ohm-cm (500℃) | 2×10^12 | ||
| ohm-cm (1000℃) | 2×10^7 |

Cada lote de produtos é inspecionado no laboratório da fábrica e no Centro Nacional de Inspeção.