Imagem em destaque da placa de polimento de wafer de 99,7% de alumina

Placa Polidora Wafer de Alumina 99,7%

Pequena descrição:

Substrato Chemshun 99,7% Al2O3 Alumina como um material de alta pureza e o novo material de tamanho grande, possui excelentes propriedades físicas e características químicas estáveis, o bom preço compara com outros materiais.A alumina de alta pureza é sempre desenvolvida pelas principais pesquisas globais e cerâmicas avançadas e fábricas de cerâmica fina.

Placa de polimento Wafer de 99,7% de alumina para polimento químico-mecânico.Como um componente importante do processo de polimento mecânico químico CMP.CMP é o necessário para o processo de produção da safira e Wafer dos semicondutores.

Chemshun Ceramics de alta pureza 99,7% alumina cerâmica safira polimento e placas de lapidação, o disco é moldado como processo de produção de PIBM.É uma tecnologia avançada interna.PIBM resolve com sucesso o problema chave de rachaduras e deformações de cerâmicas de alumina de tamanho grande. A tecnologia PIBM abrirá outra janela de cerâmicas finas.

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Detalhes do produto

Aplicativo

Como os discos de polimento de wafer de cerâmica de alumina e discos de lapidação de safira usados no semicondutor, polimento de diamante etc.

Processo: Todos os tipos de processo de polimento e lapidação, como polimento mecânico químico CMP, polimento mecânico, polimento de precisão.

Recurso

Alta pureza e durabilidade química
Alta resistência mecânica e dureza
Alta resistência à corrosão
Resistência de alta tensão
Resistente a altas temperaturas até 1700ºC
Extremamente desempenho de resistência à abrasão
Excelente desempenho de isolamento
Todo o tipo de Tamanho 180,360, 450, 600mm etc

Nome do Produto	Discos de polimento de cerâmica de alumina de alta pureza 99,7
Material	99,7% de alumina
Tamanho normal	D180, 360, 450, 600mm, tamanho personalizado aceito.
Cor	Marfim
Aplicativo	Processo CMP de Wafer e Sapphire na indústria de semicondutores
Ordem minima	1 foto

Informações químicas/físicas

		Unidade	99,7 Cerâmica de Alumina
Propriedades gerais	conteúdo Al2O3	% em peso	99,7-99,9
	Densidade	gm/cc	3,94-3,97
	Cor	-	Marfim
	Absorção de água	%	0
Propriedades mecânicas	Resistência à flexão (MOR) 20 ºC	MPa(psix10^3)	440-550
	Módulo Elástico 20ºC	GPa (psix10^6)	375
	Dureza Vickers	Gpa(kg/mm2) R45N	>=17
	resistência à flexão	Gpa	390
	Resistência à Tração 25ºC	MPa(psix10^3)	248
	Tenacidade à Fratura (KI c)	MPa* m^1/2	4-5
Propriedades Térmicas	Condutividade térmica (20ºC)	W/mk	30
	Coeficiente de expansão térmica (25-1000ºC)	1x 10^-6/ºC	7.6
	Resistência a Choque Térmico	ºC	200
	Temperatura máxima de uso	ºC	1700
Propriedades elétricas	Resistência Dielétrica (1MHz)	ac-kv/mm(ac v/mil)	8.7
	Constante dielétrica (1 MHz)	25ºC	9.7
	Resistividade volumétrica	ohm-cm (25ºC)	>10^14
		ohm-cm (500ºC)	2×10^12
		ohm-cm (1000ºC)	2×10^7

Serviço

Aceitamos encomendas personalizadas.
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