Placa de wafer de alumina 99,7% polida (imagem em destaque)

Placa de polimento de wafer de alumina 99,7%

Descrição resumida:

O substrato de alumina Chemshun 99,7%Al2O3, um material de alta pureza e de grande formato, apresenta excelentes propriedades físicas e características químicas estáveis, com um preço competitivo em relação a outros materiais. A alumina de alta pureza é objeto de constante desenvolvimento por parte das principais empresas de pesquisa e fábricas de cerâmica fina e avançada do mundo.

Placa de polimento de wafers de alumina 99,7% para polimento químico-mecânico (CMP). Componente importante do processo de polimento químico-mecânico (CMP), essencial na produção de wafers de safira e semicondutores.

As placas e discos de polimento e lapidação de cerâmica de alumina de alta pureza (99,7%) da Chemshun Ceramics são moldados pelo processo PIBM. Trata-se de uma tecnologia avançada internacional. O PIBM resolveu com sucesso o principal problema de fissuras e deformações em cerâmicas de alumina de grandes dimensões. A tecnologia PIBM abrirá novas perspectivas para a produção de cerâmicas de alta qualidade.

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Detalhes do produto

Aplicativo

Como os discos de polimento de wafers de cerâmica de alumina e de lapidação de safira usados em semicondutores, polimento de diamante, etc.

Processo: Todos os tipos de processos de polimento e lapidação, como polimento químico-mecânico (CMP), polimento mecânico e polimento de precisão.

Recurso

Alta pureza e durabilidade química
Alta resistência mecânica e dureza
Alta resistência à corrosão
Resistência a alta tensão
Resistente a altas temperaturas até 1700ºC
Desempenho de extrema resistência à abrasão
Excelente desempenho de isolamento
Todos os tamanhos disponíveis: 180, 360, 450, 600 mm, etc.

Nome do produto	Discos de polimento e lapidação de cerâmica de alumina de alta pureza (99,7%).
Material	99,7% de alumina
Tamanho normal	Diâmetros: 180 mm, 360 mm, 450 mm, 600 mm; tamanhos personalizados aceitos.
Cor	Marfim
Aplicativo	Processo CMP de wafers e safira na indústria de semicondutores
Pedido mínimo	1 foto

Informações químicas/físicas

		Unidade	Cerâmica de alumina 99,7
Propriedades Gerais	Teor de Al2O3	% em peso	99,7-99,9
	Densidade	gm/cc	3,94-3,97
	Cor	-	Marfim
	Absorção de água	%	0
Propriedades Mecânicas	Resistência à flexão (MOR) 20 ºC	MPa(psix10^3)	440-550
	Módulo de elasticidade a 20ºC	GPa (psix10^6)	375
	Dureza Vickers	GPa (kg/mm²) R45N	>=17
	Força de flexão	GPA	390
	Resistência à tração a 25ºC	MPa(psix10^3)	248
	Tenacidade à fratura (KI c)	MPa* m^1/2	4-5
Propriedades Térmicas	Condutividade térmica (20ºC)	W/mk	30
	Coeficiente de expansão térmica (25-1000ºC)	1 x 10^-6/ºC	7.6
	Resistência ao choque térmico	ºC	200
	Temperatura máxima de utilização	ºC	1700
Propriedades elétricas	Rigidez dielétrica (1MHz)	ac-kv/mm(ac v/mil)	8,7
	Constante dielétrica (1 MHz)	25ºC	9,7
	Resistividade volumétrica	ohm-cm (25ºC)	>10^14
		ohm-cm (500ºC)	2×10^12
		ohm-cm (1000ºC)	2×10^7

Serviço

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